中国陶瓷

2016, v.52;No.335(10) 22-25

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调制溅射气压对ZnO∶Ga薄膜结构与光电性能的影响
Effects of Modulate Sputtering Pressure on Structure and Optoelectric Properties of ZnO∶Ga Films

帅伟强;胡跃辉;张效华;胡克艳;陈义川;

摘要(Abstract):

利用射频磁控溅射法分阶段调制溅射气压在石英衬底上沉淀ZnO∶Ga薄膜。实验分为四组,分别是0.7 Pa/1Pa,1 Pa/1 Pa,1.5 Pa/1 Pa,2 Pa/1 Pa。对样品的晶体微结构,电学性质和光学性质进行了分析。经过表征发现:不同溅射气压状态下ZnO∶Ga薄膜都具有(002)方向的择优取向,呈ZnO的六角纤锌矿晶体结构;第一阶段溅射低气压时候的样品的电阻率较低;可见光透过率随着第一阶段溅射气压的升高不断降低;PL分析时,不同的气压状态下都出现紫外发光峰和蓝色发光峰,随着第一段溅射气压的升高样品本征发光峰和缺陷发光峰都加强。

关键词(KeyWords): 磁控溅射;ZnO∶Ga薄膜;调制;溅射气压

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 江西省科技支撑计划资助项目(2010BGA01100);; 江西省对外合作资助项目(20111BDH80031,20132BDH80025);; 江西省自然基金资助项目(20111BAB202005,20132BAB202001);; 江西省主要学科学术和技术带头人培养计划项目(20123BCB22002);; 江西省高等学校科技落地计划(KJLD12085);; 江西省教育厅科技资助项目(GJJ12494,GJJ13643,GJJ13625)

作者(Authors): 帅伟强;胡跃辉;张效华;胡克艳;陈义川;

DOI: 10.16521/j.cnki.issn.1001-9642.2016.10.005

参考文献(References):

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