中国陶瓷

1996, (03)

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陶瓷与金属在低温下的接合新技术

摘要(Abstract):

<正>据报道:日本工业技术院四国工业技术研究所科研人员开发成功陶瓷与金属在低温下接合新技术.实验是在1/1000Pa的真空下,用离子射线照射金属铜表面使之洁净化.并同用激光加热法,在陶瓷的表面能形成构成成份硅膜与铜的接合.

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